整个覆晶基板大饼扩增20至25%,下半年供不应求情况将更显著。
英特尔将于今年第四季推出的45nm Nehalem平台,由于处理器的单芯片新架构,已整合了部份北桥芯片功能,因此英特尔已与覆晶基板厂展开新合作案,Nehalem处理器采用覆晶基板层数将达十八层以上,较目前Penryn的十四层至十六层提升约15%至25%。再者,英特尔南桥芯片过去均采用闸球数组基板(PBGA),但配合Nehalem平台的新款南桥Ibexpeak将导入65nm制程及覆晶封装,所以今年下半年覆晶基板供不应求情况将更显著。
英特尔于上周美国消费性电子展(CES)中,一口气推出十六款45nmPenryn世代处理器,预计三月后大量出货,由于Penryn处理器采用新款X66版本覆晶基板,主要层数介于十四层(5+4+5)至十六层 (6+4+6)间,目前英特尔合作覆晶基板厂如揖斐电(Ibiden)、新光电气(Shinko)、日本特殊陶业(NGK Spark Plug)、南亚电路板等,首季接单持续满载,产能利用率高达95%以上。
英特尔Penryn世代仍采取处理器/北桥/南桥等三芯片微架构,但年底要推出的Nehalem世代,则已进入单芯片微架构,处理器将整合部份北桥芯片功能,再将部份北桥芯片功能整合进南桥芯片中。所以 Nehalem平台的南桥将改为新版PCH(Platform Controller Hub)架构,首颗芯片核心代号命名为Ibexpeak,将采用65nm及覆晶封装。
市场原本认为,英特尔微架构由三颗改为二颗后,对覆晶基板需求将大减,但实际上则不然。基板厂商指出,Nehalem处理器整合了北桥芯片功能后,因为单芯片需要更多的I/O接脚,所以Nehalem的四核心芯片如Lynnfield及Clarksfield,覆晶基板应用层数最少将由十八层(7+4+7)起跳,若是绘图芯片核心整合进去的双核心芯片如Have ndale及Auburndale,基板最多则来到二十层(7+6+7),且层数增加将会带来二成左右的产能自然耗减率,同时,新款南桥Ibexpeak也确定改采六层覆晶基板。
整体来算,整个覆晶基板大饼扩增了20%至25%,若上半年覆晶基板厂扩产幅度不及二成,下半年一定会出现缺货问题。只不过,覆晶基板厂经历了过去二年的供给过剩恶梦,现在除非英特尔确定下单,才会开始进行扩产,如南电至今仍暂缓大扩产能计划就是个很好的案例,若以揖斐电、新光电气、日本特殊陶业、南电等四家业者今年初定下的扩产计划来看,今年产能只会较去年提高15%,所以外资分析师均认为,覆晶基板下半年缺货问题将在第二季开始发酵。
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